MLA - микролинзовые растры
- Доступны односторонние и двусторонние исполнения с ортогональным расположением цилиндрических микролинз.
- Период массива: 1 или 1,3 мм.
- Модели без покрытия рассчитаны на 200–2100 нм; модели с просветляющим покрытием – на отдельные диапазоны в пределах 770–1100 нм.
Микролинзовые растры MLA состоят из повторяющихся цилиндрических линз на поверхности оптической подложки. Они разделяют падающий многомодовый пучок на множество участков и помогают выровнять распределение интенсивности. Совместно с дополнительной оптикой растры позволяют формировать однородные линейные или квадратные пятна с плоским профилем интенсивности.
В односторонних моделях микролинзы воздействуют на пучок в одном направлении. У двусторонних моделей ряды линз расположены на противоположных сторонах подложки взаимно перпендикулярно, что позволяет преобразовывать пучок по двум направлениям. Растры применяются в системах лазерной обработки, включая отделение материалов и отжиг, а также в лазерных системах для медицинских и косметологических процедур.
В зависимости от модели подложка изготовлена из кварцевого стекла для УФ-диапазона или оптического стекла S-TIH53. Доступны исполнения без покрытия и с просветляющим покрытием для заданных спектральных диапазонов. Стандартные изделия поставляются без монтажной оправы.Общие технические характеристики:
| Параметр | Значение |
|---|---|
|
Тип изделия
|
Массив цилиндрических микролинз |
|
Конструкция
|
Односторонняя или двусторонняя с ортогональным расположением линз |
|
Материал подложки
|
Кварцевое стекло для УФ-диапазона или S-TIH53 |
|
Период массива
|
1 или 1,3 мм |
|
Рабочие диапазоны моделей
|
Без покрытия – 200–2100 нм; с покрытием – 770–1070, 790–950, 790–990 или 900–1100 нм в зависимости от модели |
|
Монтажная оправа
|
Не входит в комплект |
|
Качество поверхности
|
DIN ISO 10110-7: 5/10×0,1; L3×0,25; E1 |
Сравнительные характеристики моделей:
| Модель | Расположение линз | Материал подложки | Габариты, мм | Рабочий диапазон, нм | Период, мм | Покрытие |
|---|---|---|---|---|---|---|
|
MLAS35-005-P13-N
|
Одностороннее | Кварцевое стекло для УФ | 35 × 35 × 2 | 200–2100 | 1,3 | Без покрытия |
|
MLAS35-011-P13-N
|
Одностороннее | Кварцевое стекло для УФ | 35 × 35 × 2 | 200–2100 | 1,3 | Без покрытия |
|
MLAR22-075-P10-B
|
Одностороннее | S-TIH53 | 22 × 10,9 × 2 | 770–1070 | 1 | Ravg < 1 % |
|
MLAS12-110-P10-B
|
Одностороннее | S-TIH53 | 12 × 12 × 2 | 790–950 | 1 | Ravg < 1 % |
|
MLAS35-005-P13-B
|
Одностороннее | Кварцевое стекло для УФ | 35 × 35 × 2 | 900–1100 | 1,3 | Ravg < 1 % |
|
MLAS35-005-OP13-N
|
Двустороннее ортогональное | Кварцевое стекло для УФ | 35 × 35 × 2 | 200–2100 | 1,3 | Без покрытия |
|
MLAS35-011-OP13-N
|
Двустороннее ортогональное | Кварцевое стекло для УФ | 35 × 35 × 2 | 200–2100 | 1,3 | Без покрытия |
|
MLAS20-011-OP13-B
|
Двустороннее ортогональное | Кварцевое стекло для УФ | 20 × 20 × 2 | 790–990 | 1,3 | Ravg < 1 % |
Оптические характеристики модели:
| Модель | Фокусное расстояние, мм | F-число | Угол расхождения, ° | Радиус кривизны, мм | Рабочая апертура, мм | ||
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| @248 нм | @532 нм | @1064 нм | |||||
|
MLAS35-005-P13-N
|
12,8 | 14,1 | 14,5 | 11,15 @ 1064 нм | 5,16 | 6,5 | 32,5 × 32,5 |
|
MLAS35-011-P13-N
|
5,88 | 6,49 | 6,65 | 5,12 | 11,21 | 2,99 | 32,5 × 32,5 |
|
MLAR22-075-P10-B
|
– | – | 0,571 | 0,571 | 75 | 0,46 | 20 × 8,9 |
|
MLAS12-110-P10-B
|
– | – | 0,305 | 0,305 @ 1064 нм | 110 | 0,25 | 10 × 10 |
|
MLAS35-005-P13-B
|
16,5 | 18,2 | 18,7 | 14,38 @ 1064 нм | 4,99 | 8,4 | 32,5 × 32,5 |
|
MLAS35-005-OP13-N
|
12,8 | 14,1 | 14,5 | 11,15 при 1064 нм | 5,16 | 6,5 | 32,5 × 32,5 |
|
MLAS35-011-OP13-N
|
5,88 | 6,49 | 6,65 | 5,12 @ 1064 нм | 11,21 | 2,99 | 32,5 × 32,5 |
|
MLAS20-011-OP13-B
|
5,88 | 6,49 | 6,65 | 5,12 @ 1064 нм | 11,21 | 2,99 | 17,5 × 17,5 |
- Выравнивание интенсивности многомодовых лазерных пучков.
- Формирование линейных и квадратных пятен с плоским профилем интенсивности.
- Лазерное отделение материалов, лазерный отжиг и системы лазерной обработки.
- Лазерные системы для медицинских и косметологических процедур.
