ГлавнаяКаталогОптическое измерительное оборудованиеАнализаторы профиля лазерного пучкаКамеры для анализа профиля лазерного пучкаBA-USB - система измерения параметров лазерного пучка
BA-USB - система измерения параметров лазерного пучка
BA-USB - система измерения параметров лазерного пучка, отличающаяся широким спектральным диапазоном и высокой точностью измерений.
- Спектральный диапазон: 190 - 2700 нм.
- Диаметр пучка: 3 мкм - 5 мм.
- Измеряемые параметры: профиль пучка, измерение положения, мощность.
Производитель: DUMA OPTRONICS
BA-USB - система измерения параметров лазерного пучка непрерывного излучения. Отличается широким спектральным диапазоном, высокой точностью измерений, а также широким динамическим диапазоном, измерением размера пучка с разрешением 0,1 мкм.
- Использование метода ножа.
- Уникальная томографическая реконструкция изображения.
- Измерения пучка диаметром от 3 мкм до 9 мм.
- Измерение профиля пучка, его положения и мощности.
- Различные типы детекторов, охватывающие широкий диапазон длин волн.
Параметр | Значение | Ед.измерения |
---|---|---|
Тип лазера | непрерывный |
|
Разрешение диаметра пучка |
для пучка > 100 мкм: 1 Для пучка < 100 мкм: 0,1 |
мкм |
Диаметр пучка | 3 мкм — 15 мм (в зависимости от модели) |
|
Спектральный диапазон |
Si 350-1100 UV-Si 190-1100 IR 800-1800 IR расширенный 1200-2700 |
нм |
Активная область сенсора | 3-10 (в зависимости от модели) |
|
Количество ножей | 3 или 7 |
|
Частота кадров | 5 | кадров/с |
Мощность | 10 мкВт — 5 мВт (без фильтров) |
|
Тип сенсора | Si, UV-Si, InGaAs, IRE |
|
Точность диаметра пучка | ±2 | % |
Точность мощности | ±10 | % |
Разрешение измерения положения | 1 | мкм |
Размер пикселя | зависит от размера пучка |
|
Глубина пикселя | 12 | бит |
Энергопотребление | 2,5 (USB2.0) | Вт |
Размеры | 105х87х35 | мм |
Вес | 755 | г |
Требования к ПК | CPU i3 1.6 GHz, 4 GB RAM |
|
Интерфейс | USB 2.0, Windows 7/8/10 (32 & 64 bit) |
|
Рабочая температура | 0..35 | °C |
- Профилирование лазерных пучков в лабораторных задачах.
- Мониторинг параметров лазерных пучков на производстве.
- Анализ профиля пучка непрерывного излучения.