ГлавнаяКаталогИмпульсные лазерыПикосекундные импульсные лазерыПикосекундные импульсные лазеры с низкой энергией, 213 - 1319 нмGS-UV - QCW пикосекундные лазеры с мощностью до 4 Вт, 355 нм
GS-UV - QCW пикосекундные лазеры с мощностью до 4 Вт, 355 нм
Квазинепрерывные пикосекундные лазеры серии GS-UV используются для генерации импульсов на длине волны 355 нм с мощностью 4 Вт.
- Длина волны 355 нм.
- Частота повторения 80 МГц.
- Мощность до 4 Вт.
- Длительность импульса до 15 пс.
Сверхбыстрые лазеры GS-UV c режимом QCW блокировки обладают такими характеристиками, как длительный срок службы, долговременная стабильность мощности и простота управления. Уникальная функция автоматической смены положения кристалла для генерации второй гармоники позволяет автоматически менять положение кристалла в зависимости от режима работы лазера, эффективно увеличивая срок службы кристалла. Кроме того, он содержит функцию APC (автоматической стабилизации мощности).
Особенности:
- Режим QCW блокировки.
- Работа в режиме 24x7, стабильность промышленного уровня.
- Функция APC (автоматической стабилизации мощности).
- Функция изменения положения кристалла.
- Дистанционное управление через RS232.
- Срок службы более 20 000 часов.
| Параметр | Значение | Ед. измерения |
|---|---|---|
|
Длина волны
|
355 | нм |
| Частота повторения | 80 (или по запросу) | МГц |
| Мощность | ≥4 | Вт |
| Длительность импульса | ≤15 | пс |
| Качество пучка (М2) | ≤1,15 | - |
| Диаметр пучка | 1 ± 0,3 | мм |
| Стабильность мощности (RMS) | ≤1 | % |
| Поляризация | Линейная | - |
| Коэффициент поляризации | ≥100:1 | - |
| Диаметр пучка | ~1,0 ± 0,2 | мм |
| Расходимость пучка | ≤0,5 | мрад |
| Округлость пучка | ≥90 | % |
| Стабильность наведения пучка |
≤25 |
мкрад/℃ |
| Время прогрева |
≤15 |
мин |
|
Рабочее напряжение |
220 ± 5% / 50 - 60 | В перем. тока / Гц |
| Потребление мощности |
≤1,75 |
кВт |
| Охлаждение | Водяное с замкнутым контуром |
|
| Рабочая температура | 15 - 35 | ℃ |
| Относительная влажность |
≤50 |
% |
- Технический контроль.
- Измерения.
- Обработка материала.
- Стереолитография.



