Измерительное оборудование для оптики и полупроводниковых пластин

Оптические профилометры для комплексного анализа поверхностей: формы, размера, шероховатости, радиуса кривизны, плоскостности, толщины поверхностей, тонких пленок и т.д. Центральная волна 520 нм или 465 нм. Повторяемость до 0,002 нм. Высокая скорость измерений - 400 мкм/с, 3200 Гц. КМОП-матрицы до 5 млн пикселей. Максимальный угол обзора на гладкой поверхности до 53°. Угол наклона локального профиля до 90°.

Оптические профилометры для комплексного анализа поверхностей: формы, размера, шероховатости, радиуса кривизны, плоскостности, толщины поверхностей, тонких пленок и т.д. Центральная волна 520 нм или 465 нм. Повторяемость до 0,002 нм. Высокая скорость измерений - 400 мкм/с, 3200 Гц. КМОП-матрицы до 5 млн пикселей. Максимальный угол обзора на гладкой поверхности до 53°. Угол наклона локального профиля до 90°.