LB-PTL-C-VI -двойные телецентрические объективы для машинного зрения
- Тип: двойной телецентрический объектив.
- Увеличение: 0,336X-0,504X
- Диапазон диафрагм: F6.5-F35.8.
- Оптический интерфейс: C-Mount.
- Низкие искажения.
Объективы серии LB-PTL-C-VI представляют собой двойные телецентрические системы, оснащенные регулируемой ирисовой диафрагмой. Эта ключевая особенность позволяет управлять балансом между глубиной резкости и разрешающей способностью под требования конкретной измерительной задачи. Благодаря двойной телецентрической конструкции объективы обеспечивают неизменное увеличение в пределах рабочего расстояния и полное отсутствие перспективных искажений, что исключает параллаксные ошибки при измерении объектов сложной формы или расположенных на разных высотах.
Модели серии обладают низкой телецентричностью (менее 0,03°) и минимальным уровнем дисторсии. Это гарантирует высокую точность измерений в пределах всего поля зрения. Регулировка диафрагмы в широком диапазоне (F6.5-F35.8) позволяет значительно увеличивать глубину резкости для контроля рельефных объектов без потери детализации. Объективы совместимы с камерами, оснащенными сенсорами размером до 1.1", и оборудованы стандартным C-Mount интерфейсом для простой интеграции в измерительные комплексы.
| Параметр | Значение | Ед. измерения | ||
|---|---|---|---|---|
| Модель | LB-PTL05519-C-VI | LB-PTL04519-C-VI | LB-PTL03719-C-VI | |
| Увеличение | 0,336X | 0,411X | 0,504X |
|
| Диапазон диафрагмы | F6.5 - F35.8 |
|
||
| Рабочее расстояние | 138 ±3% | 120 ±3% | 110 ±3% | мм |
| Поле зрения | Ø55,1 | Ø45,0 | Ø36,7 | мм |
| Диапазон глубины резкости | 6,5 - 35,2 | 4,2 - 23,6 | 2,8 - 15,6 | мм |
| Диапазон разрешения | 12,8 - 70,23 | 10,4 - 57,47 | 8,5 - 46,82 | мкм |
| Диапазон MTF | > 0,3 @ 160-29 lp/mm |
|
||
| Телецентричность | < 0,03° | ° | ||
| Дисторсия | < 0,035 | < 0,020 | < 0,026 | % |
| Макс. размер сенсора | 1,1" |
|
||
| Оптический интерфейс | C-Mount |
|
||
| Габариты | Ø79×229,9 | Ø70×187 | Ø70×154,8 | мм |
- Контроль геометрии мелких деталей.
- Измерение сложных 3D-объектов с переменным рельефом.
- Контроль качества микроэлектронных компонентов и печатных плат.
- Научные исследования.
