УФ лазеры для фотолитографии
Предлагаем Вам ознакомиться с обновленной линейкой одночастотных ультрафиолетовых лазеров для фотолитографии от компании Fex-laser (КНР).
Fex-laser – высокотехнологичное предприятие, основанное в 2022 году в Шанхае (КНР). Компания специализируется на разработке передовых волоконных лазеров и усилителей, предназначенных для использования в научных исследованиях.
Одночастотные УФ лазеры для фотолитографии предназначены для создания микроскопических структур на поверхности полупроводников и других материалов. Они излучают свет в ультрафиолетовом диапазоне, который позволяет достигать чрезвычайно высокую точность и разрешение, необходимые для современных процессов изготовления микросхем. Такие лазеры обеспечивают высокую стабильность лазерного излучения, что является критически важным для процессов фотолитографии, где требуется точный контроль размеров и формы вытравливаемых участков.
УФ лазеры для фотолитографии используются в производстве полупроводниковых микросхем, LCD-дисплеев, солнечных батарей и других устройств, требующих высокоточного нанесения и управления изображениями на поверхности.
Главные преимущества УФ лазеров для фотолитографии от Fex-laser:
- Длина волны от 193 до 488 нм.
- Мощность от 2 мВт до 2,5 Вт.
- Ширина спектральной линии ≤ 40 кГц.
- Высокая стабильность.
- Компактный размер.
Данный тип лазеров находит широкое применение в следующих областях:
- Фотолитография.
- Микроэлектроника.
- Диагностика пластин.
- Генераторы изображений.
Компания «Специальные Системы. Фотоника» является эксклюзивным дистрибьютором Fex-laser. Мы предоставляем полный спектр услуг, включая оперативную поставку продукции и техническую поддержку на территории России и ЕАЭС.
Вы можете получить любую дополнительную информацию или услугу по подбору одночастотных УФ лазеров для фотолитографии от компании Fex-laser, обратившись к специалистам нашей компании.
