ГлавнаяКаталогИмпульсные лазерыНаносекундные Nd:YAG и Nd:YLF лазеры с диодной или ламповой накачкойИмпульсные твердотельные лазеры с высокой энергией, 266 - 1064 нмLR-C03 - наносекундные твердотельные лазеры на 3 Дж, 266-1064 нм
LR-C03 - наносекундные твердотельные лазеры на 3 Дж, 266-1064 нм
Твердотельные лазеры с ламповой накачкой серии LR-C03 обеспечивает энергию до 3 Дж в наносекундных импульсах с частотой повторения до 10 Гц.
- Энергия импульсов 3 Дж для 1064 нм, 1,5 Дж для 532 нм, 0,9 Дж для 355 нм, 0,25 Дж для 266 нм.
- Формирование пучка с с плоским (flat-top) профилем.
- Частота повторения 1-10 Гц.
- Длительность импульса 8-10 нс.
- Опция SLM.
Высокомощные лазеры серии LR-C предназначены для генерации наносекундных импульсов с высокой энергией и линейной поляризацией. Промышленная конструкция лазерной головки обеспечивает стабильную и долговечную работу. Опционально доступны функции контроля энергии и длительности импульса, автоматической настройки энергии и режима с одиночной продольной модой.
Особенности:
- Высокая мощность с энергией импульсов до 3 Дж.
- Высокая надежность, устойчивость и стабильность излучения.
- Доступны длины волн излучения 1064, 532, 355, 266 нм.
- Формирование пучка с плоским профилем (flat-top).
- Возможность работы в режиме с одиночной продольной модой.
Параметр |
Значение | Ед. измерения | |
---|---|---|---|
Частота повторения импульсов
|
1 - 10 (20 - 50 по запросу) | Гц | |
Энергия импульса
|
1064 нм | 3000 | мДж |
532 нм | 1500 | ||
355 нм | 900 | ||
266 нм | 250 | ||
Стабильность энергии (RMS)
|
1064 нм | ≤0,7 | % |
532 нм | ≤1,2 | ||
355 нм | ≤2 | ||
266 нм | ≤3 | ||
Длительность импульса (@1064 нм)
|
|
8 - 10 | нс |
Расходимость пучка
|
≤0,5 | мрад | |
Стабильность наведения пучка
|
≤20 | мкрад | |
Временной джиттер
|
≤0,5 | нс | |
Диаметр пучка
|
~13 | мм | |
Профиль пучка
|
Плоский (flat-top) | - | |
Ближнепольный профиль (@1064 нм)
|
≤1,7:1 | - | |
Поляризация
|
Линейная | - | |
Ширина спектральной линии
|
1 (стандарт) / 0,005 (SLM опция) | см-1 | |
Срок службы лампы
|
≥5x107 | вспышек | |
Рабочее напряжение
|
220 ± 5% / 50 - 60 | В перем. тока / Гц | |
Потребление мощности
|
≤3 | кВт | |
Рабочая температура
|
+15 - +35 | °C | |
Относительная влажность
|
≤80 | % | |
Время прогрева
|
15 | мин |
- Лазерная ударная обработка.
- TW и PW системы.
- Лазерная абляция.
- Физика плазмы.
- Кремниевый отжиг.