ГлавнаяКаталогИмпульсные лазерыПикосекундные импульсные лазерыПикосекундные импульсные лазеры с высокой энергией, 355 - 1064 нмPicoYL-100 - пикосекундный лазер для промышленных применений, 100 Вт, 1035 нм
PicoYL-100 - пикосекундный лазер для промышленных применений, 100 Вт, 1035 нм
PicoYL-100 - пикосекундный лазер с длиной волны 1035 нм. PicoYL - серия лазеров, разработанная для промышленного применения, обеспечивает высокую энергию импульса, высокую частоту повторения, высокую среднюю мощность и короткий импульс.
- Длина волны: 1035 нм.
- Высокое качество пучка М² <1,3.
- Длительность импульса от 50 до 800 пс.
- Высокая стабильность и надежность устройства.
- Интерфейс RS232/DB25.
Производитель: YSL PHOTONICS
PicoYL-100 от YSL Photonics имеет непрерывно настраиваемую длительность импульса от 50 до 800 пс и частоту повторения от 25 кГц до 5 МГц. Короткая длительность импульса, высокая частота повторения в сочетании с пиковой мощностью более 1 МВт обеспечивают высокую скорость нанесения стойкой черной/цветной маркировки на различные металлы, тонкопленочные покрытия и термочувствительные материалы.
Особенности:
- Длина волны: 1035 нм.
- Высокое качество пучка М² <1,3.
- Длительность импульса от 50 до 800 пс
- Высокая стабильность и надежность устройства.
- Интерфейс RS232/DB25.
Параметры | Значение | Ед.измерения |
---|---|---|
Центральная длина волны
|
1035 | нм |
Средняя мощность
|
> 100 | Вт |
Частота повторения
|
25 кГц - 5 МГц | |
Стабильность мощности
|
≤ 2 | % |
Энергия в импульсе
|
>300 при 800 пс |
мкДж |
Пиковая мощность
|
1 | МВт |
Длительность импульса
|
50 - 800 | пс |
Качество пучка М² | < 1,3 |
|
Диаметр пучка | ~ 2 (на 1 метре от вывода) | мм |
Расходимость пучка
|
< 2 | мрад |
Поляризация
|
случайная | |
Выход синхронизации
|
SMA TTL | |
Управление
|
RS232 / DB25 | |
Питание
|
AC 100-240 В, 50/60 Гц | |
Размеры
|
540 х 320 х 127 | мм |
- Лазерная маркировка.
- Резка фольги для литий-ионных аккумуляторов.
- Нанесение изображений на тонкопленочные солнечные элементы.
- Нарезка кремния или карбида кремния на тонкие пластины.
- Подстройка резисторов.
- Нанесение хромованадиевого покрытия.
- Микрообработка прозрачных материалов.