ГлавнаяРешенияИзмерение потерь мощности оптического излучения при распространении в волноводах ИОС

Измерение потерь мощности оптического излучения при распространении в волноводах ИОС

Интегрально-оптические схемы (ИОС) в настоящее время являются основой наиболее совершенных и малогабаритных устройств. Элементная база ИОС широкая и включает в себя разветвители, кольцевые резонаторы, линии задержки, модуляторы, адаптеры поля и др. В основе большинства элементов лежат оптические волноводы, обеспечивающие распространение оптического излучения с необходимыми характеристиками.

Материал, геометрические параметры волновода, показатель преломления среды определяют параметры мод и рабочий диапазон длин волн. Процесс формирования волновода зависит от большого количества факторов, вне зависимости от используемых методов. Одним из основных параметров, характеризующих волновод или элемент на его основе, является величина оптических потерь распространяющегося по нему оптического излучения.

Разработчики и производители ИОС неизменно стремятся уменьшить количество теряемой мощности и оптимизировать этапы изготовления структур интегрально-оптических схем. Вне зависимости от масштабов и количества производимых изделий для анализа параметров необходим мощный и универсальный инструмент. В настоящее время на рынке наиболее оптимальным решением является использование OFDR рефлектометров высокого разрешения. Лучшим представителем этого класса приборов является OBR 4600 от компании LUNA. Высокая чувствительность в -130 дБ и пространственное разрешение до 10 мкм позволяют оператору "заглянуть внутрь" волновода и точно оценить его характеристики.

laptop_OBR_screen_box.jpg

Рис.1. OFDR рефлектометр высокого разрешения LUNA OBR 4600

Пример легко реализуемой схемы анализа распределённых вносимых оптических потерь и результаты измерений, представленные в работе [1].


OFDR рефлектометры зачастую используются для определения точного положения событий отражений и дефектов в оптических волокнах. На рис. 2 b представлены пики отражения от торцов чипа. Так как рефлектометр позволяет анализировать события отражения вдоль волновода чипа, имеется возможность проанализировать распределённые вносимые потери при распространении излучения по конкретному участку. Основным преимуществом этого метода является то, что не требуется принимать во внимание потери мощности при вводе света в чип. Таким образом результаты измерения отличаются высокой точностью и повторяемостью. На измеритель оптический мощности в этом случае попадает прошедшее излучение, что позволяет легко настроить положение линзированного волокна для более эффективного ввода в исследуемый волновод.

При анализе рефлектограммы необходимо учитывать тот факт, что излучение распространяется в обоих направлениях перед тем, как попасть в приёмный блок OBR 4600. Затухание α (дБ/см) рассчитывается на основе полученной аппроксимирующей кривой графика зависимости интенсивности отражённого излучения от положения в волноводе чипа. Для минимизации влияния отражения от торцов используется внутренняя часть графика (примеры на рис. 2). Диапазон перестройки встроенного автоматически калибруемого перестраиваемого источника в этом случае был выбран от 1540 до 1560 нм для максимального пространственного разрешения. Таким образом, рассчитывалось среднее значение затухания для используемого диапазона длин волн. Обе поляризации (TM и TE) были проанализированы и усреднены с помощью OBR 4600.

Master_Thesis_final_report.jpg

Рис. 2. a - принципиальная схема измерений с помощью ODFR;
b - пример полученной в ходе измерений рефлектограммы;
c - анализируемая часть рефлектограммы, соответствующая волноводу чипа;
d - фотография, демонстрирующая метод ввода/вывода излучения;
e - пример неподходящей для анализа рефлектограммы (отражение на уровне шума);
f - рефлектограмма короткого участка волновода;
e - пример слишком длинного волновода с высоким затуханием и ярко выраженными дефектами.


Длина участков, вычисляемая и отображаемая OBR 4600 зависит от эффективного показателя преломления волновода, который может указать оператор. Обработку результатов можно облегчить, используя пики отражения от торцов и точные геометрические габариты чипа. Это также позволяет проводить грубую оценку потерь в пластинах, имеющих различные толщины волноводов, отличие значений которых вызвано несовершенством производственного процесса.

С целью проведения качественных измерений, максимально исключающих мощность детектируемого отраженного сигнала на уровне шума, необходимо обеспечить эффективный ввод оптического излучения в ИОС. Для этого мы рекомендуем использовать прецизионные системы позиционирования канадской компании LUMINOS, чьи специалисты неоднократно доказали высочайший уровень гибкости и компетенции в решениях для позиционирования оптических волокон и ИОС.

На фотографии в качестве примера представлена Т-образная сборка, состоящая из двух ручных шестикоординатных микропозиционеров с держателями ОВ, трёхкоординатной подвижки с вакуумным фиксатором чипов и двух устройств, позволяющим контролировать механическое напряжение при соприкосновении торца волокна с ИОС.

LUMINOS.png

Рис.3. Пример T- образной системы позиционирования LUMINOS

В каталоге продукции на нашем сайте представлены следующие компоненты для проведения работ в области интегральной фотоники:

Описание использования автоматических систем монтажа волоконных выводов и зондовых станций приведено в соответствующем решении на нашем сайте.


Компания «Специальные Системы. Фотоника» является эксклюзивным дистрибьютором компании LUNA на территории Российской Федерации и Республики Беларусь. Получить дополнительную информацию о продукции и решениях LUNA Вы можете, обратившись к специалистам нашей компании.
[1] Low loss Silicon Nitride Waveguides for Photonic Integrated Circuits. - Hugo Dupont - стр. 12 - 14. - École Polytechnique Fédérale de Lausanne - Март 2019

Возврат к списку


Мой заказ