ГлавнаяКаталогИмпульсные лазерыПикосекундные импульсные лазерыПикосекундные импульсные лазеры с низкой энергией, 213 - 1319 нмGS-150 - пикосекундные лазеры с мощностью до 150 мВт, 355 нм
GS-150 - пикосекундные лазеры с мощностью до 150 мВт, 355 нм
Пикосекундный лазер GS-150 обеспечивает квазинепрерывное УФ излучение с длиной волны 355 нм. Внешняя оболочка обрабатывается лазером за считанные секунды. Лазер имеет промышленный дизайн, компактную конструкцию, малый вес и стандартный универсальный внешний интерфейс управления, который подходит для системной интеграции.
- Средняя мощность 150 мВт @355 нм.
- Частота повторения 80 МГц.
- Длительность импульса 12 пс.
- Высокое качество пучка М²<1,3.
- Долговременная стабильность мощности.
| Параметр | Значение | Ед. измерения |
|---|---|---|
|
Длина волны
|
355 | нм |
|
Мощность
|
150 | мВт |
| Частота повторения | 80 ± 1 | МГц |
|
Длительность импульса
|
< 12 | пс |
|
Профиль пучка
|
TEM00 (M2 < 1,3) | |
|
Стабильность мощности (RMS)
|
< 2 | % |
|
Коэффициент поляризации
|
> 100 : 1 | |
|
Округлость пучка
|
> 85 | % |
|
Стабильность наведения пучка
|
< 20 | мкрад/℃ |
|
Диаметр пучка
|
1 | мм |
|
Источник питания
|
220V AC ±5% 50-60 Гц | |
|
Потребляемая мощность
|
< 1 | кВт |
|
Способ охлаждения
|
Водяное с замкнутым контуром | |
|
Рабочая температура
|
15 - 35 | ℃ |
|
Рабочая влажность
|
< 65 | % |
|
Время прогрева
|
< 40 | мин |
- Лазерная микрообработка.
- Высокоточная микро-стереолитография.
- Контроль полупроводниковых пластин и скрининг ячеек.
Мой заказ