FTMD-T050 - измеритель толщины тонких пленок

  • Диапазон длин волн 400-850 нм.
  • Толщина измерения 50 нм-100 мкм.
  • Разрешение 0,01 нм.
  • Количество слоев до 10.

Преимущества:
  • Световые волны. Различные длины волн проникают в слой измеряемой пленки, разность фаз между светом, отраженным от верхней и нижней поверхностей, усиливается или ослабевает
  • Конструктивная суперпозиция. Возникает, когда разность фаз является целым кратным длины волны, что приводит к максимальной отражательной способности.
  • Деструктивная суперпозиция. Происходит, когда разность фаз составляет половину длины волны, что приводит к минимальной отражательной способности.
  • Суперпозиция целых и половинных длин волн. Создает отражательную способность, находящуюся между максимальным и минимальным значениями.
  • Толщина. Определяется путем анализа интерференционной картины.




Параметр
Значение Ед. измерения
Диапазон длин волн
480 - 850 нм
Толщина измерения
50 нм -100 мкм
Разрешение
0,01 нм
Точность
0,2% &1нм
Повторяемость
0,1 нм
Стабильность
0,05 нм
Угол падения
90°
Количество слоев
10
Определение коэффициента преломления
доступно
Режим измерения* онлайн/офлайн  
Измеряемые материалы
прозрачный или полупрозрачный материалы
Способ измерения
принцип отражения
Обнаружение грубых материалов
доступно
Рабочее расстояние стандартно 1,5-3, макс:50 (опционально) мм
Размер пятна 100, 200, 400 м
*Доступно для всех моделей серии. 






  • Полупроводники.
  • Презиционная оптика.
  • ЖК-дисплеи.
  • Новая энергия / Фотоэлектричество.
  • Медицина.
  • Фрезы.
  • Технологические пленки.
  • Полимеры.
  • ITO.
  • Перовскит.
  • Квантовые точки.
  • Пленки.
  • Диоксид кремния.
  • Склеивание стекла.
  • Микрофлюидика.
  • Фоторезист.
  • PI пленка.

 
Модель Описание
FTMD-T050 Диапазон длин волн 400-850 нм, толщина измерения 50 нм-100 м, разрешение 0,01 нм, количество слоев до 10. Mapping версия станции (станция для картирования) доступна опционально для любой модели.
Назад к разделу

Мой заказ