ГлавнаяКаталогНепрерывные лазерыДиодные (полупроводниковые) лазерыДиодные лазеры ИК диапазона, 760 - 2200 нмPLM-785 - диодный лазер на объемных брэгговских решетках (VBG)
PLM-785 - диодный лазер на объемных брэгговских решетках (VBG)
- Длина волны 785 нм.
- Выходная мощность до 110 мВт.
- Ширина спектральной линии 1 - 2 нм.
- Стабильность длины волны +/- 1 нм.
- Высокая стабильность выходной мощности.
Производитель: USHIO
PLM-785 - серия диодных лазеров на объемных Брэгговских решетках (VBG).
Особенности:
- Высокая стабильность выходной мощности.
- Компактный дизайн.
- Низкое энергопотребление.
- С волоконным выводом или без оптического волокна.
| Параметр | Значение | Единица измерения |
|---|---|---|
| Рабочие характеристики | ||
| Стандартная длина волны | 785 ± 10 | нм |
| Выходная мощность без оптического волокна | 110 | мВт |
| Выходная мощность для SMF | 45 | мВт |
| Ширина спектральной линии | 1 - 2 | нм |
| Стабильность длины волны | ± 1 (8 часов) | нм |
| Стабильность оптической мощности | < 2 (8 часов) | % pk - pk |
| Уровень шума (10 Гц - 100 МГц) | 0,2 | % rms |
| Регулируемая выходная мощность | 5 - 100 | % |
| Оптические характеристики без волокна | ||
| Качество пучка м2, вертикаль | 1,2 | |
| Качество пучка м2, горизонталь | 1,1 | |
| Размер пучка, вертикаль | 1,2 | мм |
| Размер пучка, горизонталь | 0,6 | мм |
| Соотношение сторон пучка | 2 | |
| Расходимость пучка, вертикаль | 0,8 | мрад |
| Расходимость пучка, горизонталь | 1,3 | мрад |
| Стабильность центрирования пучка | < 50 (8 часов) | мкрад |
| Точность центрирования пучка | 1 | ° |
| Поляризационное отношение | 100 : 1 линейное | |
| Электрические характеристики | ||
| На входе постоянного тока (макс.) | 2,1 А для 3,3 В | |
| Время прогрева | 10 | сек |
| Потребляемая мощность | < 7 | Вт |
| Интерфейс | USB, 10-контактные разъемы ввода / вывода | |
| Общие характеристики | ||
| Температура корпуса | от 10 до 40 | °C |
| Влажность без конденсации | от 5 до 95 | % |
| Вес | 134 | г |
| Габаритные размеры | 86 | см3 |
- Источники возбуждения комбинационного рассеяния
- Проточная цитометрия
- Полупроводниковая обработка
- Управление процессом в режиме реального времени
- Метрология
Мой заказ