Российский форум «Микроэлектроника 2026»
28 Сентября 2026
Приглашаем вас посетить Российский форум «Микроэлектроника 2026», который пройдет с 28 сентября по 2 октября на федеральной территории «Сириус».
Ждем вас на стенде №49 компании «Специальные Системы. Фотоника».

В рамках деловой и выставочной программы вы сможете:
- Посетить профильные доклады наших экспертов.
- Обсудить свои задачи с техническими специалистами компании.
- Увидеть оборудование в действии и протестировать отдельные решения на своем волокне.
Оборудование и решения
Посетители нашей демозоны смогут детально изучить технические характеристики и возможности оборудования по ключевым направлениям форума, в том числе:
Сварка PM-волокна с контролем PER
- программируемый скалыватель XQ7410 от OSCOM
- сварочный аппарат XQ7260-C от OSCOM
- поляризованный источник LSB-ASE-1550-5-P от Opeak
- измеритель коэффициента экстинкции (PER) PEM-100L от Opeak
На стенде можно будет увидеть полный процесс сварки PM-волокна и оценить качество полученного соединения по значению PER.
Одночастотные ультрафиолетовые и синие лазеры для фотолитографии и других высокоточных задач
- Длина волны от 190 нм до 488 нм. Специальные версии на 193 нм, 257,3 нм и 248 нм.
- Средняя мощность от 10 мВт до 5 Вт.
- Новые типы внутрирезонаторного преобразования.
- Высокая геометрическая стабильность пучка.
- Устойчивость к внешним вибрациям и отсутствие скачков моды.
- Прецизионная ширина спектральной линии.
- Увеличенный срок официальной гарантии.
- Наличие сервисного центра на территории РФ и ЕАЭС.
На стенде будет представлен образец лазера Fex-Laser — вы сможете ознакомиться с оборудованием, оценить качество исполнения и обсудить возможные варианты применения с нашими специалистами.
Системы фемтосекундной 3D нанопечати, безмасковой фотолитографии и микрообработки
- Полностью интегрированные системы для быстрого прототипирования и компактного производства.
- Минимальные размеры структур (XY) ≤ 100 нм, разрешение 300 нм, минимальные размеры структур (Z) 350 нм, разрешение 500 нм, точность (XYZ) ≤ 50 нм.
- Скорость обработки вокселей 40 млн точек/с (для 100 нм), сетка 3D размещения 20 нм – 20000 нм.
- Специальные версии для технологии соединения на базе фотонной проволоки (PWB) в области интеграции фотонных чипов, биосовместимых материалов.
- Автоматическая система корректировки ошибок, объективы 100Х; 20Х; 2X.
- Поддержка форматов BMP, PNG, TIFF, DXF и GDSII.
- Система многоуровневой виброизоляции.
- Оперативная техническая поддержка.
Тепловизоры для тестирования печатных плат и микропроцессоров
- Выявление тепловых аномалий до 500°C.
- Частота кадров до 125 Гц для контроля быстрых процессов.
- Сменные объективы с фокусировкой.
- Пространственное разрешение 28 мкм.
- Термочувствительность 40 мК.
- Отечественное ПО для анализа измерений.
На стенде вы сможете ознакомиться с тепловизионной системой для контроля печатных плат и микроэлектроники компании Теккноу и обсудить её применение с нашими специалистами.
Высокоточное радиочастотное и оптическое измерительное оборудование
- Решение для радиочастотных измерений, тестирования и диагностики электрооптических и оптоэлектронных устройств.
- Анализ и тестирование волоконно-оптических систем и фотонных интегральных схем.
- Измерение и анализ спектральных характеристик оптических систем.
- Анализаторы спектра (OSA) всегда есть в наличии на складе. Минимальные сроки поставки!
Позиционеры для сверхточных перемещений
- Вертикальные пьезопозиционеры.
- Линейные пьезопозиционеры.
- Поворотные пьезопозиционеры.
- Пьезоэлектрические гониометры и наклонные платформы.
- Гексаподы и многоосевые пьезопозиционеры.
- Пьезоэлектрические держатели оптики.
- Сканирующие пьезолектрические столики.
- Контроллеры и аксессуары пьезоэлектрических позиционеров.
3D оптические профилометры
- LED источник белого света (технология WLI: PSI, VSI).
- Съемка высокочувствительной КМОП камерой 5 Мп.
- Высокоскоростной пьезосканер с широким диапазоном сканирования.
- Разрешение по вертикальной оси: 0,001 нм.
- Среднеквадратичная повторяемость при измерении кремниевой пластины по методике ИСО 25178-2:2014 в лабораторных условиях составляет 0,002 нм.
- Специализированные объективы с большой числовой апертурой.
- Низкий центр тяжести установки для эффективной виброизоляции.
До встречи на форуме!