Безмасковая фотолитография
S2P-iMLE-HP - установка цифровой безмасковой фотолитографии для высокопроизводительной линии
Источник излучения: 365 / 375 / 405 нм. Минимальный размер элемента от 0,3 мкм. Скорость экспонирования до 3300 мм²/мин. Размер подложки до 12 дюймов.
S2P-iM-LE-S - установка цифровой безмасковой фотолитографии для умной лаборатории
Источник излучения: 365 / 375 / 405 нм. Минимальный размер элемента от 0,5 мкм. Скорость экспонирования до 400 мм²/мин. Размер подложки до 8 дюймов.
Фильтр
Мой заказ